-
紫外臭氧清洗機
- 生產(chǎn)廠家:美國Novascan公司
- 產(chǎn)品型號:PSD
● PSD系列紫外臭氧清洗機(UV-Ozone)通過操作簡便的數(shù)字控制器進行控制,讓您的工作變的很簡單。燈管尺寸自 10x10cm至51x51cm不等。PSD系列紫外臭氧清洗機的特點就是強大...
查看詳情 -
實驗室石墨電熱板
- 生產(chǎn)廠家:CIF
- 產(chǎn)品型號:PH
● CIF恒溫石墨電熱板采用分體式和無金屬附件設(shè)計理念,減少了酸蒸汽等對控制系統(tǒng)的腐蝕,保證了操作人員的安全和實驗結(jié)果的準(zhǔn)確性。...
查看詳情 -
全自動濕法處理系統(tǒng)
- 生產(chǎn)廠家:德國Osiris
- 產(chǎn)品型號:CHEMIXX 1201
● CHEMIXX 1201是全自動濕法處理系統(tǒng),配置cassette to cassette 或foup,,支持12寸及以下尺寸晶圓或9 x 9 英寸方片的濕法處理,包括蝕刻、清潔或顯影工藝。該系統(tǒng)可配...
查看詳情 -
大尺寸濕法處理系統(tǒng)
- 生產(chǎn)廠家:德國Osiris
- 產(chǎn)品型號:CHEMIXX 760
● CHEMIXX 760系統(tǒng)是一款大尺寸濕法系統(tǒng),支持最大樣品達(dá)535X535mm(21寸方片),更大的樣品尺寸可定制,一臺系統(tǒng)可實現(xiàn)清洗、蝕刻 、顯影 ,干燥整個工藝過程。...
查看詳情 -
濕法刻蝕專用系統(tǒng)
- 生產(chǎn)廠家:德國Osiris
- 產(chǎn)品型號:CHEMIXX E 30Pm
● CHEMIXX E 30 濕法刻蝕系統(tǒng)專門用于掩膜版與晶圓的刻蝕與清洗,安全性能好,可使用 H2SO4, H2O2,NH4OH,HF,BOE等液體。...
查看詳情 -
CMP后雙面清洗機
- 生產(chǎn)廠家:德國Osiris
- 產(chǎn)品型號:CHEMIXX CMP 30pm
● CHEMIXX CMP 30pm是一款專門為晶圓雙面清洗設(shè)計的系統(tǒng),獨立系統(tǒng),占地面積小,非常適合有限的空間。具有4路化學(xué)液清洗,兆聲清洗,雙面PVA刷洗,去離子水沖洗等清洗模塊,對晶圓有頂級的清洗能...
查看詳情